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梓夢(mèng)科技邀您參加2025年精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇

更新時(shí)間:2025-07-22      瀏覽次數(shù):549

梓夢(mèng)科技邀您參加2025年精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇

<梓夢(mèng)科技>

 

2025724-25日在東莞喜來(lái)登大酒店舉辦2025年全國(guó)精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇(第三屆),本次論壇將邀請(qǐng)產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)、科研院所和行業(yè)投資機(jī)構(gòu)等,圍繞精密研磨拋光的磨料制備技術(shù)、工藝創(chuàng)新、拋裝備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用等方面進(jìn)行專(zhuān)題交流,為中國(guó)精密制造再上一個(gè)臺(tái)階做出貢獻(xiàn)。

 

隨著半導(dǎo)體集成電路、醫(yī)療器械和航空航天等產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展和升級(jí),核心精密零件對(duì)表面粗糙度與面型精度的要求已經(jīng)達(dá)到了亞納米甚至原子量級(jí)。精研與拋光是影響精密零件可靠性與精確性的核心后道過(guò)程,精密研磨拋光技術(shù)正經(jīng)歷從材料研發(fā)到工藝創(chuàng)新的全面革新。

 

梓夢(mèng)科技邀您參加2025年精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇 

由于大的顆粒磨料會(huì)對(duì)晶圓表面產(chǎn)生刮痕,從而導(dǎo)致整體質(zhì)量下降,CMP拋光液要求盡量降低大顆粒的數(shù)量,對(duì)梓夢(mèng)科技而言,此次交流會(huì)是展示如何檢測(cè)CMP拋光液中大顆粒的好機(jī)會(huì)。

 

會(huì)上,梓夢(mèng)科技也將為大家提供LPC大顆粒計(jì)數(shù)系統(tǒng)、CMP平坦化粒度、粒形分析技術(shù),精準(zhǔn)定制化半導(dǎo)體大顆粒解決方案。

 

?                      LPC 大顆粒計(jì)數(shù)分析儀/ZM-02

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產(chǎn)品介紹:

大顆粒計(jì)數(shù)分析儀是采用光阻法原理設(shè)計(jì)生產(chǎn)的顆粒計(jì)數(shù)器,其主要的功能是用來(lái)測(cè)試CMP Slurry藥液中顆粒數(shù)量等,如二氧化硅、氧化鈰、氧化鋁等藥液。ZM-02產(chǎn)品可以按照要求查看任意通道顆粒的數(shù)量,如1μm2μm5μm等。

技術(shù)特點(diǎn):

ü                      檢測(cè)方式:離線或在線

ü                      數(shù)據(jù)通道: 1024個(gè)

ü                      自定義通道: 64個(gè)

ü                      數(shù)據(jù)濃度上限可達(dá)1x 10

ü                      檢測(cè)范圍廣,0.5μm - 400μm

ü                      模塊化設(shè)計(jì),便于升級(jí)及維護(hù)

ü                      全自動(dòng)進(jìn)樣、自動(dòng)稀釋、自動(dòng)檢測(cè)、自動(dòng)清洗、數(shù)據(jù)分析

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對(duì)于黏度較高的樣品,大顆粒計(jì)數(shù)分析儀ZM-02可實(shí)現(xiàn)一鍵式操作,快速識(shí)別出漿料中高風(fēng)險(xiǎn)的大顆粒,無(wú)需人工稀釋操作,減少了測(cè)量誤差,更不需要人工清洗,大大提高檢測(cè)效率。

 

?                      CMP粒形分析儀/M3000

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產(chǎn)品介紹:

粒形分析儀是采用動(dòng)態(tài)圖像法原理設(shè)計(jì)生產(chǎn)的顆粒計(jì)數(shù)器,其主要的功能是用來(lái)測(cè)試CMP Slurry藥液中顆粒數(shù)量、顆粒形狀、不同形狀顆粒的數(shù)量濃度等,如二氧化硅、氧化鈰、氧化鋁等藥液。

不同形狀的顆粒對(duì)拋光效果和良率有明顯差異,粒形的控制是Slurry生產(chǎn)過(guò)程需要控制的重要參數(shù)。

技術(shù)特點(diǎn):

ü                      檢測(cè)方式:離線或在線

ü                      全自動(dòng)稀釋?zhuān)瑹o(wú)需人工稀釋

ü                      用于CMP Slurry中顆粒濃度檢測(cè)

ü                      數(shù)據(jù)濃度上限可達(dá)1x 109 /ml

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球形度數(shù)據(jù)

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頓度數(shù)據(jù)

 

粒形分析儀M3000尤其適用于CMP拋光液生產(chǎn)企業(yè)對(duì)“球形度"、“鈍度"等參數(shù)的管控,可直接觀察漿料的形狀大小,可有效調(diào)整生產(chǎn)工藝,從而提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。在未來(lái)的精密研磨拋光領(lǐng)域,粒形分析儀M3000有望助力企業(yè)在市場(chǎng)中占據(jù)更有利的地位。

結(jié)語(yǔ)

梓夢(mèng)科技建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶提供多方位的支持。無(wú)論是儀器的安裝調(diào)試、操作培訓(xùn),還是后續(xù)的維修保養(yǎng)、技術(shù)升級(jí),都有專(zhuān)業(yè)的團(tuán)隊(duì)及時(shí)響應(yīng)和處理,為半導(dǎo)體企業(yè)提供精準(zhǔn)定制化半導(dǎo)體大顆粒解決方案

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